专利名称：厌氧性氨氧化细菌的培养方法和装置专利类型：发明专利
发明人：井坂和一,角野立夫,常田聪申请号：CN200610067832.0申请日：20060314公开号：CN1834231A公开日：20060920
摘要：本发明提供一种厌氧性氨氧化细菌的培养装置(10)，其是以亚硝酸和氨为基质在培养槽(12)中培养进行厌氧脱氮的新型厌氧性氨氧化细菌，具备：以规定浓度向培养槽(12)中供给氨的供氨机构14，和以规定浓度向培养槽(12)中供给亚硝酸的供亚硝酸机构16，和对基质的供给速度Y进行控制的控制装置(22)。由此，本发明可以在以氨和亚硝酸为基质的厌氧性氨氧化细菌的培养中，在没有浪费的情况下提供基质并生成菌体浓度高的种污泥，或者在短期内进行运转的调试。
申请人：日立工程设备建设株式会社
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：朱丹
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