专利名称：一种高效环保无污染硅片清洗剂及其制备方法专利类型：发明专利发明人：姚利加
申请号：CN201910918055.3申请日：20190926公开号：CN110591832A公开日：20191220
摘要：本发明公开了一种高效环保无污染硅片清洗剂，由以下重量份的原料制成：复配表面活性剂11～14份、金属离子络合剂8～10份、异辛醇磷酸酯2～3份、C6～C18脂肪酸3～5份、C4～C14吡啶3～4份、过氧化氢28～32份、氨水185～195份；所述复配表面活性剂为十二胺聚氧乙烯醚与椰油胺聚氧乙烯醚的复配混合物。本发明的高效环保无污染硅片清洗剂仅存在碳、氢、氧、氮四种元素，即可以有效去除有机物沾污，又可以去除金属离子沾污，同时不引入新的金属离子污染，由于配好后的清洗液PH小于10，其对硅材料表面的腐蚀速度小于3nm/min，不影响硅片表面结构，有利于提高硅片制绒后的吸光能力。
申请人：嘉兴瑞智光能科技有限公司
地址：314000 浙江省嘉兴市嘉善县罗星街道晋阳东路568号综合楼4号孵化楼4303、4304号
国籍：CN
代理机构：嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙)
代理人：王家蕾
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