专利名称：用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法专利类型：发明专利
发明人：李泰永,李仁庆,崔炳镐,朴容淳申请号：CN200810085567.8申请日：20080319公开号：CN101333420A公开日：20081231
摘要：本发明提供了一种用于对相变存储设备进行化学机械抛光(CMP)的浆料组合物。该组合物含有去离子水；含氮化合物；和选择性含有的研磨颗粒、氧化剂、或研磨颗粒和氧化剂的组合。该浆料组合物可以实现对相变存储设备的高抛光速率，并提高在相变存储材料和抛光阻挡层(如氧化硅膜)间的抛光选择性，能够使加工瑕疵(如凹陷和侵蚀)的出现最小化，从而提供高质量的抛光表面。本发明还提供了一种使用该浆料组合物对相变存储设备进行抛光的方法。
申请人：第一毛织株式会社
地址：韩国庆尚北道
国籍：KR
代理机构：北京润平知识产权代理有限公司
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