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一种提高单晶硅炉晶体生长速度的装置

2023-01-09 来源:钮旅网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)实用新型专利

(21)申请号 CN200820109320.0 (22)申请日 2008.07.18

(71)申请人 北京天能运通晶体技术有限公司

地址 100034 北京市西城区德胜门外大街11号C座3室

(10)申请公布号 CN201224778Y

(43)申请公布日 2009.04.22

(72)发明人 朱仁德;刘旭峰

(74)专利代理机构 北京汇泽知识产权代理有限公司

代理人 闫立德

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

一种提高单晶硅炉晶体生长速度的装置

(57)摘要

本实用新型属于一种提高单晶硅炉晶

体生长速度的装置,采用在石英坩埚上端的炉膛内设有上下端开口的导流筒,导流筒由导流内筒和导流外筒所组成,导流内筒呈倒圆锥形,导流外筒呈圆筒形,导流外筒下周边向内收缩与导流内筒外周边连成一体,导流内筒上周边与导流外筒上周边连成一体并卡固在下保温盖上,导流内筒和导流外筒之间设有隔热材料层。本实用新型能有效保证炉膛内两种温度的互相衔接,可大幅度提高炉膛内晶体生长速度,还有提高硅晶质量,

降低制作成本的优点。 法律状态

法律状态公告日

2009-04-22 2009-04-22 2012-09-05 2012-09-05 2018-08-10

法律状态信息

授权 授权

文件的公告送达 文件的公告送达 专利权的终止

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权利要求说明书

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说明书

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