专利名称：填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充
膜的制造方法
专利类型：发明专利发明人：村本穰,菊池正尚申请号：CN202010025666.8申请日：20151028公开号：CN111168984A公开日：20200519
摘要：本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。
申请人：迪睿合株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京挚诚信奉知识产权代理有限公司
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