（12）发明专利申请
（21）申请号 CN200910190333.4 （22）申请日 2009.09.17
（71）申请人 深圳超多维光电子有限公司
地址 518000 广东省深圳市福田区华强北路赛格科技工业园2栋10层西座A-03
（10）申请公布号 CN101671354A
（43）申请公布日 2010.03.17
（72）发明人 魏伟 （74）专利代理机构
代理人
（51）Int.CI
C07F7/04; C07F7/18; C08G77/24; C08G77/02; C08G77/06; B29C33/62;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
一种脱模剂的制备方法
（57）摘要
本发明公开了一种脱膜剂的制备方法，采
用硅烷偶联剂单体经水解缩合反应进行制备。所
述硅烷偶联剂单体可以为4－甲基－(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷，还可以为正硅酸乙酯，将经过本发明方法制备的脱模剂改性过的模具用在微透镜阵列光栅的制作上，制得的光栅表面形貌好，不会出现发毛、橘皮、水纹、透光不均匀等，能够满足生产高质量光栅的要求。
法律状态
法律状态公告日
2010-03-17 2010-03-17 2010-06-16 2010-06-16 2012-06-27 2012-06-27 2018-08-24
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权
专利申请权、专利权的转移
法律状态
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权
专利申请权、专利权的转移
权利要求说明书
一种脱模剂的制备方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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