专利名称：控制器、光刻设备、控制物体位置的方法及器件制
造方法
专利类型：发明专利
发明人：R·I·卡米迪,H·巴特勒,M·霍凯斯,M·M·J·范德沃
尔,J·J·M·范德维基德翁
申请号：CN201110380824.2申请日：20111122公开号：CN102540756A公开日：20120704
摘要：本发明公开了一种控制器、一种光刻设备、一种控制物体的位置的方法以及一种器件制造方法。所述控制器配置成用于控制具有布置用以作用在物体上的多个致动器的致动器系统。控制器使用增益平衡矩阵将表示想要施加至物体的重心的一组力的第一控制信号转换成表示通过所述多个致动器施加的等价的一组力的第二控制信号。系统还配置成使得第一增益平衡矩阵用在第一频带，并且第二增益平衡矩阵用在第二频带。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰维德霍温
国籍：NL
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：吴敬莲
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