（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201610855271.4 （22）申请日 2016.09.27
（71）申请人 上海和辉光电有限公司
地址 201506 上海市金山区九工路1568号
（10）申请公布号 CN107868932A
（43）申请公布日 2018.04.03
（72）发明人 王国兵
（74）专利代理机构 北京品源专利代理有限公司
代理人 孟金喆
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
一种金属掩膜版及其制作方法
（57）摘要
本发明公开了一种金属掩膜版及其制作方
法。所述金属掩膜版的制作方法包括：提供一金属基板；在所述金属基板上形成图形化的介质层；在所述金属基板以及所述介质层上形成掩膜材料层；去除所述介质层以及所述介质层上的所述掩膜材料层；以及分离所述金属基板与剩余的所述掩膜材料层,以利用剩余的所述掩膜材料层构成所述金属掩膜版。本发明实施例提供的技术方案，省去了现有技术中的湿法刻蚀工艺，避免了
湿法刻蚀工艺导致的金属掩膜版精度低的问题，达到了提高金属掩膜版精度的有益效果。
法律状态
法律状态公告日
2018-04-03 2018-04-03 2018-05-01
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效
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公开 公开
实质审查的生效
权利要求说明书
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说明书
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